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PSS襯底（SPM）清洗機
產能要求： GaN工藝 150000片/月和PSS工藝 105000片/月，共計255000片/月（設計機臺GaN工藝和PSS工藝各有1道，按照25分鐘/run,50片/run。產能共計270000片/月,按照22小時/天， 26天/月計算）滿足要求 ；
藥液種類：超聲波：去光阻液或ITO溶液；511溶液（H2SO4:H2O2:H2O=5:1:1）；稀HCl溶液（HCl:H2O=1:5） ；
PSS襯底（SPM）清洗機
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PSS襯底（SPM）清洗機
詳細信息 PSS襯底（SPM）清洗機
產能要求： GaN工藝 150000片/月和PSS工藝 105000片/月，共計255000片/月（設計機臺GaN工藝和PSS工藝各有1道，按照25分鐘/run,50片/run。產能共計270000片/月,按照22小時/天， 26天/月計算）滿足要求 ；
藥液種類：超聲波：去光阻液或ITO溶液；511溶液（H2SO4:H2O2:H2O=5:1:1）；稀HCl溶液（HCl:H2O=1:5） ； 共0條 相關評論 |