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1 前言
以往生產低輻射鍍膜玻璃循序一般是按照客戶的訂單先切割玻璃成為客戶所需的尺寸，再磨邊、鋼化、鍍膜、中空、裝箱、發貨。這種生產循序的問題是，上片率不高，補片麻煩、交貨日期延后、成本浪費。而可鋼化低輻射鍍膜玻璃的生產循序是，先鍍玻璃原片，再切割、磨邊、鋼化、中空、裝箱、發貨。克服了以上幾個缺點，同樣的功率消耗，生產可最大化，多備點鍍膜片庫存即可直接改切客戶所需要的訂單，又可改切后工序及客戶安裝過程中報損的玻璃，大大降低了生產成本和交貨日期。為公司帶來了良好的效益。
2 可鋼化低輻射鍍膜玻璃生產過程中需注意的問題
可鋼化低輻射鍍膜玻璃技術與生產是一個比較難的課題，以前是切割、磨邊、鋼化、鍍膜、中空；現在是鍍膜、切割、磨邊、鋼化、中空。鍍膜工序被拉前到了第一個工序，直到在中空線做出成品，中間要經歷切割刀頭上的切割油，要碰到磨邊是的玻璃粉，清洗機的毛刷，以及鋼化爐近700℃的高溫，所以，可鋼化低輻射鍍膜玻璃的膜層必須要好，這取決于鍍膜工藝以及后工序的規范操作。
對于鍍膜工藝，所有膜層的熱工性能必須是穩定的，它們必須能承受700℃的鋼化工藝過程。必須設置足夠厚的阻擋層防止玻璃表層的鈉離子擴散至膜層，而銀層的兩相鄰邊必須有很好的包裹，防止內外層對銀層的影響，致使銀層氧化和硫化。頂層膜必須具有足夠的抗化學和機械的能力，防止在搬運處置過程中的機械損傷和化學破壞。在生產可鋼化低輻射鍍膜玻璃時必須注意以下幾點：
（1）原片要求在一個月以內，儲存在干燥的倉庫內，并且保證包裝完好。
（2）要求鍍膜機清洗機水質電阻率在10兆歐以上。
（3）鍍膜后的大片進堆垛機的第一片需貼保護膜，后面的大片需均勻噴隔離粉。
（4）鍍完一包需用錫箔紙封邊打包，并沿邊放置有效干燥劑。
（5）可鋼化低輻射鍍膜玻璃工作區域需佩戴皮手套、口罩等勞保用品。
（6）采用輕質易揮發切割油切割，防止切割成小片的玻璃膜面塵埃積聚。
（7）可鋼化低輻射鍍膜玻璃磨邊時必須裝換成軟毛刷。
（8）鋼化必須選擇適當的工藝來生產可鋼化低輻射鍍膜玻璃。
3 可鋼化低輻射鍍膜玻璃膜系的探索
真空濺射鍍Low-E玻璃的膜層系列基本是以銀（Ag）層作為功能膜的一種三明治結構，即用兩層高透過率的減反射膜，中間夾一層很薄的銀膜。典型的結構是：玻璃／保護層／銀層／保護層。而Low-E玻璃的關鍵性能參數是輻射率E。E值是由膜層材料的面電阻和膜層的表面粗糙度決定的，E值隨著膜層的面電阻和膜層表面的粗糙程度的增大而增大。由于銀是金屬導體中電阻率最小的材料，所以銀層很薄的時候，其E值能達到最小，單銀膜的E值能達到0.1以下，而雙銀膜E值能達到0.05左右。兩層減反射膜一般是SiN，其作用是多方面的，保護不耐腐蝕的銀膜，調節玻璃的顏色，增加可見光的透過率等。SiN膜的耐久性、附著性和耐酸堿腐蝕性都較好。
可鋼化低輻射鍍膜玻璃在鍍膜工藝后面多了一道鋼化工藝。要做到玻璃鋼化前后透過率、反射率以及顏色參數完全一樣或者是在國家標準允許的色差范圍內，其中的難度可想而知。當對Low-E膜玻璃進行鋼化加熱的時候，外界氧氣會向外層保護膜深度方向上擴散，當氧氣擴散到銀層時，會將銀膜氧化變色，銀層完全被破壞。經過多方面的研究，本人認為可鋼化低輻射鍍膜玻璃的兩種生產膜系比較好用：a、G/Si/NiCr/Ag/NiCr/Si，這種生產膜系適合透過率在50％以下的可鋼化低輻射鍍膜產品；b、G/Si/ZnAl/Ag/NiCr/Si，這種膜系適合透過率在50％以上的可鋼化低輻射鍍膜玻璃產品。
鍍膜系a的鍍膜玻璃時，保證前后SiN有一定厚度，對幾組變量進行了分析：
小結：當鍍膜系a鍍膜玻璃時，NiCr前后比例一樣的情況下，生產透過率在50％以下的可鋼化低輻射玻璃時，不管是從鋼化前后的外觀、顏色的比較，還是從鋼化前后玻璃的性能比較，都是很好的膜系。
鍍膜系b的鍍膜玻璃時，保證ZnAl在12nm左右的情況下，也對幾組變量進行了分析：
小結：當鍍膜系b鍍膜玻璃時，保證ZnAl在12nm左右的情況下，生產透過率在50％以上的可鋼化低輻射鍍膜玻璃，不管是從鋼化前后的外觀、顏色的比較，還是從鋼化前后玻璃的性能比較，都是很好的膜系。
4 生產G/Si/NiCr/Ag/NiCr/Si膜系產品時各膜層需注意的問題
關于膜系的確定問題，很多鍍膜方面的專家都已經從事了多年的研究，再就是由于廠家的鍍膜機的差異，工藝人員的個人喜好，所以適合可鋼化的膜系不可能是唯一的，下面只針對G/Si/NiCr/Ag/NiCr/Si膜系說說本人的研究心得。
4.1 功能Ag層
普通的Low-E膜層，銀膜的厚度為9nm，輻射率為0.1左右，根據公式e=0.0129R口-6.7×10-5R口2，這里R口=p/d，單位為Q，p是電阻率，d是銀膜厚度，計算得出電阻率相當于7.2Ω·m。為了得到輻射率為0.05的產品，銀膜厚度需要增加到18nm，但此時可見光透過率將跌到80％以下，所以低的輻射率和高的可見光透過是一個相互矛盾的方向，根據客戶的需要可以調節前后保護層來達到客戶所需要的透過率、反射率及顏色值。
4.2 外層阻擋層NiCr
其作用就是為了防止大氣中的O2破壞Ag層，很多廠家為了得到高性能的低輻射鍍膜玻璃，從而減少NiCr來提高玻璃的透過率，但是我們不能忽略NiCr在可鋼化低輻射鍍膜工藝中所起到的作用。這也是前一章中強調的前后NiCr層都要有一定的厚度的原因。
4.3 底層阻擋層NiCr
為了提高可鋼化Low-E的膜層吸附的牢固度和防霉印、水印等一些缺陷的發生，采用盡量新鮮的浮法玻璃原片就顯得尤其重要（這方面在其他文章里已有詳細說明）。由于原片是新鮮的，帶來了另外一個問題，來自于原片玻璃內部的高活性的Na+（生產玻璃原片所用到的原料中含有鈉鹽）仍然保持高的活性，而SiN膜層不可能完全致密，所以一些體積極小的活性Na+會穿過SiN膜而接觸到金屬Ag層，并且與Ag層中的電子發生作用從而影響到Ag的穩定性。而此時就需要NiCr來保護Na+對Ag層的攻擊。據大多數生產廠家而言，都會在NiCr中加入少量的O2，使得部分NiCr變成NiCrOX，從而更好的吸收Na+。
5 結語
可鋼化低輻射鍍膜玻璃，一改以前生產的局限性，把鍍膜工藝提前到第一道生產工序，這樣大大的提高了生產廠家的效益與效率，也必將是未來玻璃深加工行業的發展趨勢。所以可鋼化低輻射鍍膜玻璃的鍍膜工藝顯得尤為重要，先必須確定一套適合自身鍍膜設備的膜系，再確定好前后保護膜層SiN的厚度，最后就是針對中間三層的調節，如何確定這三種膜的厚度就顯得尤為重要，必須從成本、市場需求、風險考驗等等一些因素綜合考慮，能經受時間和市場考驗的Low-E玻璃產品才能算是成熟的產品。
